一.鋁合金硬質(zhì)氧化的優(yōu)點(diǎn)：

1.鋁合金硬質(zhì)質(zhì)氧化后，表面硬度最多可達(dá)到最高HV500上下。

2.氧化膜厚度25-2500UM.

3.附著力強(qiáng)。根據(jù)硬質(zhì)氧化產(chǎn)生的氧化特性：50%的氧化膜滲入鋁合金，50%附著在鋁合金表面（雙向生長(zhǎng)）。

4.絕緣性好：擊穿場(chǎng)強(qiáng)可達(dá)2萬(wàn)V(完美的封孔)。

5.耐磨性好；對(duì)于含銅量不超過(guò)2%的鋁合金，其最大磨耗指數(shù)為3%.5MG/1000轉(zhuǎn).5MG/1000轉(zhuǎn)。

6.無(wú)毒：氧化膜和用于生產(chǎn)陽(yáng)極氧化膜的電化學(xué)工藝對(duì)身體無(wú)害。因此，為了減輕商品重量、加工方便、環(huán)保、微毒等要求，許多行業(yè)目前部分產(chǎn)品部件采用鋁合金硬氧化代替不銹鋼、鍍鉻等工藝。

二.硬質(zhì)陽(yáng)極氧化與普通陽(yáng)極氧化的區(qū)別：

50%的硬質(zhì)氧化氧化膜滲入鋁合金，50%附著在鋁合金表面。由于硬質(zhì)氧化后產(chǎn)品外部尺寸增大，內(nèi)孔變小。

（1）操作條件的差異：

1.不同溫度：一般氧化18-222℃有添加劑的可達(dá)30左右℃溫度過(guò)高容易出現(xiàn)粉末或裂紋：硬質(zhì)氧化一般為5℃下面，溫度越小，硬度越大。

2.濃度差：一般氧化一般在20%左右，硬質(zhì)氧化一般在15%以上。

3.電流/電壓差：一般氧化電流強(qiáng)度一般：1-1.5A/DM2、硬氧化：1.5-5A/DM2、一般氧化電壓≤18V,硬氧化有時(shí)高達(dá)12000V。

（2）膜層性能差異：

1.膜層薄厚：一般氧化膜屋薄厚相對(duì)較薄；硬質(zhì)氧化一般膜層薄厚715UM，太低達(dá)不到硬度≥300HV的需求。

2.表面狀態(tài)：一般氧化表面光滑，硬質(zhì)氧化表面粗糙（微觀，與基本表面粗糙度有關(guān)）。

3.孔隙率不同：一般氧化孔隙率高，硬質(zhì)氧化孔隙率低。

4.一般氧化基本為透明膜；由于膜厚，硬質(zhì)氧化為不透明膜。